Makassar — Universitas Andi Djemma (Unanda) ambil bagian dalam Pelatihan Penulisan Deskripsi Permohonan Paten (PDPP) 2026 yang berlangsung di Menara Bosowa, Makassar, pada 23–24 Juni 2026. Kegiatan ini menjadi langkah strategis kampus dalam meningkatkan kapasitas dosen di bidang kekayaan intelektual sekaligus mendorong hilirisasi riset akademik menuju paten.

Digelar Kemendikti Sainstek, Sasar Akademisi Indonesia Timur

Pelatihan ini diselenggarakan oleh Direktorat Hilirisasi dan Kemitraan, Kementerian Pendidikan Tinggi, Sains, dan Teknologi (Kemendikti Sainstek), sebagai bagian dari komitmen nasional memperkuat perlindungan kekayaan intelektual atas hasil riset perguruan tinggi di Indonesia.

Peserta yang terlibat merupakan dosen dan peneliti terpilih dari wilayah Indonesia Timur. Fokus utama pelatihan adalah membekali para akademisi dengan teknik penyusunan dokumen spesifikasi paten sesuai standar nasional maupun internasional — kemampuan yang krusial agar hasil riset kampus bernilai komersial dapat memperoleh perlindungan hukum yang kuat.

Dosen Unanda Pelajari Teknik Penyusunan Deskripsi Paten

Salah satu peserta dari Unanda, Dr. Taruna S. Arsam, S.P., M.Si, menyebut pelatihan ini sebagai fasilitas penting bagi dosen sekaligus inventor kampus dalam proses pendaftaran paten, baik paten biasa maupun paten sederhana.

“Sebagai akademisi, kini kami memahami teknik penyusunan deskripsi paten yang benar. Ini akan memperbesar peluang riset Unanda untuk mendapatkan status granted (disetujui),” ujar Dr. Taruna.

Dorong Hilirisasi Riset Jadi Hak Paten

Keikutsertaan Dr. Taruna dalam pelatihan ini menegaskan komitmen Unanda untuk mendorong para dosen tidak hanya aktif dalam kegiatan riset, tetapi juga mampu mengonversi luaran penelitian menjadi hak kekayaan intelektual berupa paten.

Harapan Unanda ke Depan

Melalui partisipasi ini, Unanda berharap produk-produk inovasi hasil karya civitas akademikanya dapat segera terdaftar secara resmi sebagai paten, sehingga mampu memberikan kontribusi nyata bagi masyarakat maupun dunia industri.

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *